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136 6048 9419报告编码:3073460
出版时间:2026-01-06
行业:电子及半导体
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报告页码:116
图表:112
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本报告由恒州诚思出版研究与统计成果,报告版权仅为恒州诚思所有。未经恒州诚思书面许可,任何机构或个人不得以任何形式翻版、复制和发布本报告。报告仅提供给购买报告的客户内部使用,如需订阅研究报告,请直接联系本网站,任何机构和个人如引用、刊发本报告,须同时注明出处为恒州诚思,且不得对本报告进行任何有悖原意的引用、删节或修改。未经授权刊载或者转发本报告的,恒州诚思将保留向其追究法律责任的权利。
据恒州诚思调研统计,2025年全球EUV光掩模坯料收入规模约49.38亿元,到2032年收入规模将接近104.8亿元,2026-2032年CAGR为11.4%。
EUV掩模坯料是一种低热膨胀玻璃基板,其表面有各种光学镀膜。EUV 掩模坯料由基板上的 40 至 50 个或更多的硅和钼交替层组成。虽然目前市场上只有 Hoya 和 AGC 具有商业交付能力,但我们也根据该技术在该市场的真实情况,纳入了研究样品或小批量产品以供使用。
全球EUV光掩模坯料核心厂商包括AGC Inc和Hoya等,前2大厂商占有全球大约93%的份额。AGC Inc是全球最大的EUV光掩模坯料生产商,占有超过59%的市场份额。亚太是最大的市场,占有73%的份额。在应用方面,半导体是最大的下游领域,占有大约90%的市场份额。
EUV Mask Blanks市场驱动因素主要包括:
1. 半导体行业技术升级与制程节点缩小
1.1 EUV技术成为先进制程唯一方案
技术必要性:随着半导体制造向7nm、5nm及更先进制程推进,极紫外(EUV)光刻技术成为唯一可行方案。EUV Mask Blanks作为EUV光刻的关键材料,其需求直接受先进制程扩产驱动。
1.2 制程节点缩小推动需求
应用扩展:EUV工艺不仅应用于逻辑芯片(如CPU、GPU),还扩展至DRAM等存储芯片,进一步推动EUV Mask Blanks需求增长。
厂商动态:台积电、三星、英特尔等厂商持续扩大EUV产能,例如台积电计划2024年将EUV产线数量增加至50条以上。
2. 市场需求激增与产能扩张
2.1 终端市场需求驱动
新兴技术推动:5G、AI、自动驾驶、物联网等新兴技术对高性能芯片的需求激增,推动半导体厂商采用更先进制程技术。
数据支撑:2024年全球半导体市场规模预计达6260亿美元,其中EUV相关芯片占比超40%。
2.2 厂商产能扩张计划
AGC扩产案例:AGC计划到2024年将EUV光掩模坯产能提升至当前两倍,以满足台积电、三星等厂商的扩产需求。
三星供应链多元化:三星为减少对日本供应商的依赖,积极引入韩国供应商(如S&S Tech),推动供应链多元化。
3. 供应链安全与地域竞争
3.1 供应商集中度与地缘政治影响
市场集中度:全球EUV Mask Blanks市场由AGC、Hoya等少数企业主导,前两名厂商市场份额超90%。
地缘政治风险:日本企业在EUV Mask Blanks市场占据主导地位,导致其他国家厂商寻求供应链多元化,以降低地缘政治风险。
3.2 区域市场竞争格局
北美与日本主导市场:北美和日本在全球EUV Mask Blanks市场占据约70%的份额,其中日本企业(如Hoya)在技术上处于领先地位。
中国市场的崛起:中国通过政策支持和本土企业研发,逐步提升在EUV Mask Blanks市场的份额,例如中科院微电子所等机构在材料科学领域取得突破。
4. 技术壁垒与研发投入
4.1 材料科学与工艺挑战
多层膜结构:EUV Mask Blanks需具备多层膜结构(如Mo/Si反射层)、低热膨胀基板(LTEM)及高吸收率材料(如TaN),技术门槛极高。
缺陷控制需求:EUV光刻对掩模缺陷容忍度极低,厂商需通过精密制造与检测技术(如ABI系统)提升良率。
4.2 研发投入与技术创新
AGC技术突破:AGC通过融合玻璃材料、加工与涂布技术,成为全球唯一一家可横跨“玻璃材料”到“涂布”的EUV Mask Blanks厂商。
行业合作与标准制定:国际半导体产业协会(SEMI)等机构推动EUV Mask Blanks标准制定,促进技术规范与市场准入。
5. 政策支持与产业生态
5.1 政府补贴与专项基金
中国政策支持:中国“十四五”规划将半导体列为重点产业,通过专项基金支持EUV相关材料研发,例如对中芯国际、长江存储等企业的补贴。
美国与欧盟政策:美国《芯片法案》和欧盟《芯片法案》均将EUV技术列为优先发展领域,提供税收优惠和资金支持。
5.2 产业生态与合作关系
厂商与设备商合作:EUV Mask Blanks厂商与ASML等光刻机设备商紧密合作,优化材料与设备的兼容性。
学术机构参与:高校与研究机构(如斯坦福大学、东京大学)在EUV材料科学领域开展前沿研究,推动技术突破。
6. 成本与良率压力
6.1 高成本挑战与规模效应
单价差异:EUV Mask Blanks单价显著高于传统光掩模,厂商需通过规模效应降低单位成本。
数据支撑:EUV Mask Blanks的单价约为传统光掩模的5-10倍,但通过扩产可降低至3倍以内。
6.2 良率提升需求
工艺优化:为解决氢气引起的起泡缺陷、表面颗粒污染等问题,厂商需持续投入研发,提升良率与寿命。
检测技术进步:采用ABI系统等先进检测技术,实时监控掩模质量,确保良率达标。
EUV Mask Blanks市场的增长主要由半导体行业技术升级、先进制程扩产、供应链安全需求、技术壁垒与研发投入、政策支持及成本压力等因素共同驱动。未来,随着EUV技术的进一步普及和制程节点的持续缩小,市场需求将持续增长,同时技术竞争与供应链整合将成为关键。厂商需通过技术创新、产能扩张与供应链多元化,以抓住市场机遇并应对挑战。
本文调研和分析全球EUV光掩模坯料发展现状及未来趋势,核心内容如下:
(1)全球市场总体规模,分别按销量和按收入进行了统计分析,历史数据2021-2025年,预测数据2026至2032年
(2)全球市场竞争格局,全球范围内主要生产商EUV光掩模坯料销量、收入、价格及市场份额,数据2021-2026年
(3)中国市场竞争格局,中国主要生产商EUV光掩模坯料销量、收入、价格及市场份额,数据2021-2026年,包括国际企业及中国本土企业
(4)全球其他重点国家及地区EUV光掩模坯料市场竞争格局,如美国、欧洲、日本、韩国、东南亚和印度等核心参与者及其2025年份额
(5)按产品类型和应用拆分,分析全球与核心国家/地区细分市场规模
(6)全球EUV光掩模坯料核心生产地区及其产量、产能
(7)EUV光掩模坯料行业产业链上游、中游及下游
本文重点关注如下国家或地区:
北美市场(美国、加拿大和墨西哥)
欧洲市场(德国、法国、英国、俄罗斯、意大利和欧洲其他国家)
亚太市场(中国、日本、韩国、印度、东南亚和澳大利亚等)
南美市场(巴西等)
中东及非洲
按产品类型拆分,包含:
类型1
类型2
按应用拆分,包含:
半导体
IC(集成电路)
其他
全球范围内EUV光掩模坯料主要生产商:
Hoya
AGC Inc
S&S Tech
Applied Materials
Photronics Inc
1 市场综述
1.1 EUV光掩模坯料定义及分类
1.2 全球EUV光掩模坯料行业市场规模及预测
1.2.1 按收入计,2021-2032年全球EUV光掩模坯料行业市场规模
1.2.2 按销量计,2021-2032年全球EUV光掩模坯料行业市场规模
1.2.3 2021-2032年全球EUV光掩模坯料价格趋势
1.3 中国EUV光掩模坯料行业市场规模及预测
1.3.1 按收入计,2021-2032年中国EUV光掩模坯料行业市场规模
1.3.2 按销量计,2021-2032年中国EUV光掩模坯料行业市场规模
1.3.3 2021-2032年中国EUV光掩模坯料价格趋势
1.4 中国在全球市场的地位分析
1.4.1 按收入计,2021-2032年中国在全球EUV光掩模坯料市场的占比
1.4.2 按销量计,2021-2032年中国在全球EUV光掩模坯料市场的占比
1.4.3 2021-2032年中国与全球EUV光掩模坯料市场规模增速对比
1.5 行业发展机遇、挑战、趋势及政策分析
1.5.1 EUV光掩模坯料行业驱动因素及发展机遇分析
1.5.2 EUV光掩模坯料行业阻碍因素及面临的挑战分析
1.5.3 EUV光掩模坯料行业发展趋势分析
1.5.4 中国市场相关行业政策分析
2 全球EUV光掩模坯料行业竞争格局
2.1 按EUV光掩模坯料收入计,2021-2026年全球主要厂商市场份额
2.2 按EUV光掩模坯料销量计,2021-2026年全球主要厂商市场份额
2.3 EUV光掩模坯料价格对比,2021-2026年全球主要厂商价格
2.4 全球第一梯队、第二梯队和第三梯队,三类EUV光掩模坯料市场参与者分析
2.5 全球EUV光掩模坯料行业集中度分析
2.6 全球EUV光掩模坯料行业企业并购情况
2.7 全球EUV光掩模坯料行业主要厂商产品列举
3 中国市场EUV光掩模坯料行业竞争格局
3.1 按EUV光掩模坯料收入计,2021-2026年中国市场主要厂商市场份额
3.2 按EUV光掩模坯料销量计,2021-2026年中国市场主要厂商市场份额
3.3 中国市场EUV光掩模坯料参与者份额:第一梯队、第二梯队、第三梯队
3.4 2021-2026年中国市场EUV光掩模坯料进口与国产厂商份额对比
3.5 2025年中国本土厂商EUV光掩模坯料内销与外销占比
3.6 中国市场进出口分析
3.6.1 2021-2032年中国市场EUV光掩模坯料产量、销量、进口和出口量
3.6.2 中国市场EUV光掩模坯料进出口贸易趋势
3.6.3 中国市场EUV光掩模坯料主要进口来源
3.6.4 中国市场EUV光掩模坯料主要出口目的地
4 全球主要地区产能及产量分析
4.1 2021-2032年全球EUV光掩模坯料行业总产能、产量及产能利用率
4.2 全球EUV光掩模坯料行业主要生产商总部及产地分布
4.3 全球主要生产商近几年EUV光掩模坯料产能变化及未来规划
4.4 全球主要地区EUV光掩模坯料产能分析
4.5 全球EUV光掩模坯料产地分布及主要生产地区产量分析
4.5.1 全球主要地区EUV光掩模坯料产量及未来增速预测,2021 VS 2025 VS 2032
4.5.2 2021-2032年全球主要生产地区及EUV光掩模坯料产量
4.5.3 2021-2032年全球主要生产地区及EUV光掩模坯料产量份额
5 行业产业链分析
5.1 EUV光掩模坯料行业产业链
5.2 上游分析
5.2.1 EUV光掩模坯料核心原料
5.2.2 EUV光掩模坯料原料供应商
5.3 中游分析
5.4 下游分析
5.5 EUV光掩模坯料生产方式
5.6 EUV光掩模坯料行业采购模式
5.7 EUV光掩模坯料行业销售模式及销售渠道
5.7.1 EUV光掩模坯料销售渠道
5.7.2 EUV光掩模坯料代表性经销商
6 按产品类型拆分,市场规模分析
6.1 根据产品类型,EUV光掩模坯料行业产品分类
6.1.1 类型1
6.1.2 类型2
6.2 按产品类型拆分,全球EUV光掩模坯料细分市场规模增速预测,2021 VS 2025 VS 2032
6.3 按产品类型拆分,2021-2032年全球EUV光掩模坯料细分市场规模(按收入)
6.4 按产品类型拆分,2021-2032年全球EUV光掩模坯料细分市场规模(按销量)
6.5 按产品类型拆分,2021-2032年全球EUV光掩模坯料细分市场价格
7 全球EUV光掩模坯料市场下游行业分布
7.1 EUV光掩模坯料行业下游分布
7.1.1 半导体
7.1.2 IC(集成电路)
7.1.3 其他
7.2 全球EUV光掩模坯料主要下游市场规模增速预测,2021 VS 2025 VS 2032
7.3 按应用拆分,2021-2032年全球EUV光掩模坯料细分市场规模(按收入)
7.4 按应用拆分,2021-2032年全球EUV光掩模坯料细分市场规模(按销量)
7.5 按应用拆分,2021-2032年全球EUV光掩模坯料细分市场价格
8 全球主要地区市场规模对比分析
8.1 全球主要地区EUV光掩模坯料市场规模增速预测,2021 VS 2025 VS 2032
8.2 2021-2032年全球主要地区EUV光掩模坯料市场规模(按收入)
8.3 2021-2032年全球主要地区EUV光掩模坯料市场规模(按销量)
8.4 北美
8.4.1 2021-2032年北美EUV光掩模坯料市场规模预测
8.4.2 2025年北美EUV光掩模坯料市场规模,按国家细分
8.5 欧洲
8.5.1 2021-2032年欧洲EUV光掩模坯料市场规模预测
8.5.2 2025年欧洲EUV光掩模坯料市场规模,按国家细分
8.6 亚太
8.6.1 2021-2032年亚太EUV光掩模坯料市场规模预测
8.6.2 2025年亚太EUV光掩模坯料市场规模,按国家/地区细分
8.7 南美
8.7.1 2021-2032年南美EUV光掩模坯料市场规模预测
8.7.2 2025年南美EUV光掩模坯料市场规模,按国家细分
8.8 中东及非洲
9 全球主要国家/地区分析
9.1 全球主要国家/地区EUV光掩模坯料市场规模增速预测,2021 VS 2025 VS 2032
9.2 2021-2032年全球主要国家/地区EUV光掩模坯料市场规模(按收入)
9.3 2021-2032年全球主要国家/地区EUV光掩模坯料市场规模(按销量)
9.4 美国
9.4.1 2021-2032年美国EUV光掩模坯料市场规模(按销量)
9.4.2 美国市场EUV光掩模坯料主要厂商及2025年份额
9.4.3 美国市场不同产品类型 EUV光掩模坯料份额(按销量),2025 VS 2032
9.4.4 美国市场不同应用EUV光掩模坯料份额(按销量),2025 VS 2032
9.5 欧洲
9.5.1 2021-2032年欧洲EUV光掩模坯料市场规模(按销量)
9.5.2 欧洲市场EUV光掩模坯料主要厂商及2025年份额
9.5.3 欧洲市场不同产品类型 EUV光掩模坯料份额(按销量),2025 VS 2032
9.5.4 欧洲市场不同应用EUV光掩模坯料份额(按销量),2025 VS 2032
9.6 中国
9.6.1 2021-2032年中国EUV光掩模坯料市场规模(按销量)
9.6.2 中国市场EUV光掩模坯料主要厂商及2025年份额
9.6.3 中国市场不同产品类型 EUV光掩模坯料份额(按销量),2025 VS 2032
9.6.4 中国市场不同应用EUV光掩模坯料份额(按销量),2025 VS 2032
9.7 日本
9.7.1 2021-2032年日本EUV光掩模坯料市场规模(按销量)
9.7.2 日本市场EUV光掩模坯料主要厂商及2025年份额
9.7.3 日本市场不同产品类型 EUV光掩模坯料份额(按销量),2025 VS 2032
9.7.4 日本市场不同应用EUV光掩模坯料份额(按销量),2025 VS 2032
9.8 韩国
9.8.1 2021-2032年韩国EUV光掩模坯料市场规模(按销量)
9.8.2 韩国市场EUV光掩模坯料主要厂商及2025年份额
9.8.3 韩国市场不同产品类型 EUV光掩模坯料份额(按销量),2025 VS 2032
9.8.4 韩国市场不同应用EUV光掩模坯料份额(按销量),2025 VS 2032
9.9 东南亚
9.9.1 2021-2032年东南亚EUV光掩模坯料市场规模(按销量)
9.9.2 东南亚市场EUV光掩模坯料主要厂商及2025年份额
9.9.3 东南亚市场不同产品类型 EUV光掩模坯料份额(按销量),2025 VS 2032
9.9.4 东南亚市场不同应用EUV光掩模坯料份额(按销量),2025 VS 2032
9.10 印度
9.10.1 2021-2032年印度EUV光掩模坯料市场规模(按销量)
9.10.2 印度市场EUV光掩模坯料主要厂商及2025年份额
9.10.3 印度市场不同产品类型 EUV光掩模坯料份额(按销量),2025 VS 2032
9.10.4 印度市场不同应用EUV光掩模坯料份额(按销量),2025 VS 2032
9.11 中东及非洲
9.11.1 2021-2032年中东及非洲EUV光掩模坯料市场规模(按销量)
9.11.2 中东及非洲市场EUV光掩模坯料主要厂商及2025年份额
9.11.3 中东及非洲市场不同产品类型 EUV光掩模坯料份额(按销量),2025 VS 2032
9.11.4 中东及非洲市场不同应用EUV光掩模坯料份额(按销量),2025 VS 2032
10 主要EUV光掩模坯料厂商简介
10.1 Hoya
10.1.1 Hoya基本信息、EUV光掩模坯料生产基地、销售区域、竞争对手及市场地位
10.1.2 Hoya EUV光掩模坯料产品型号、规格、参数及市场应用
10.1.3 Hoya EUV光掩模坯料销量、收入、价格及毛利率(2021-2026)
10.1.4 Hoya公司简介及主要业务
10.1.5 Hoya企业最新动态
10.2 AGC Inc
10.2.1 AGC Inc基本信息、EUV光掩模坯料生产基地、销售区域、竞争对手及市场地位
10.2.2 AGC Inc EUV光掩模坯料产品型号、规格、参数及市场应用
10.2.3 AGC Inc EUV光掩模坯料销量、收入、价格及毛利率(2021-2026)
10.2.4 AGC Inc公司简介及主要业务
10.2.5 AGC Inc企业最新动态
10.3 S&S Tech
10.3.1 S&S Tech基本信息、EUV光掩模坯料生产基地、销售区域、竞争对手及市场地位
10.3.2 S&S Tech EUV光掩模坯料产品型号、规格、参数及市场应用
10.3.3 S&S Tech EUV光掩模坯料销量、收入、价格及毛利率(2021-2026)
10.3.4 S&S Tech公司简介及主要业务
10.3.5 S&S Tech企业最新动态
10.4 Applied Materials
10.4.1 Applied Materials基本信息、EUV光掩模坯料生产基地、销售区域、竞争对手及市场地位
10.4.2 Applied Materials EUV光掩模坯料产品型号、规格、参数及市场应用
10.4.3 Applied Materials EUV光掩模坯料销量、收入、价格及毛利率(2021-2026)
10.4.4 Applied Materials公司简介及主要业务
10.4.5 Applied Materials企业最新动态
10.5 Photronics Inc
10.5.1 Photronics Inc基本信息、EUV光掩模坯料生产基地、销售区域、竞争对手及市场地位
10.5.2 Photronics Inc EUV光掩模坯料产品型号、规格、参数及市场应用
10.5.3 Photronics Inc EUV光掩模坯料销量、收入、价格及毛利率(2021-2026)
10.5.4 Photronics Inc公司简介及主要业务
10.5.5 Photronics Inc企业最新动态
11 研究成果及结论
12 附录
12.1 研究方法
12.2 数据来源
12.2.1 二手信息来源
12.2.2 一手信息来源
12.3 市场评估模型
12.4 免责声明
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